자이스 코리아, 세미콘 코리아 2026 참가

[2026년 2월 4일-서울]

독일계 광학 전문 기업인 자이스 코리아(ZEISS Korea)가 오는 2월 11일부터 13
일까지 서울 코엑스에서 열리는 ‘세미콘 코리아 2026’에 참가한다. 자이스는 첨단 리소그래피 광학,
포토마스크 솔루션, 공정 제어 시스템, 현미경 기술 등 반도체 산업 전반에 걸쳐 혁신적인 광학 솔루션을
제공하는 글로벌 기업이다. 이번 행사에서 자이스는 최첨단 광학 기술을 기반으로 한 리소그래피 광학
렌즈부터 포토마스크를 위한 다양한 솔루션, 정밀 검사 및 계측을 위한 최신 반도체 솔루션 등을 선보일
예정이다. 자이스 코리아는 D홀 226 부스에서 만나볼 수 있다.

자이스는 독보적인 기술력을 바탕으로 EUV 포토마스크를 위해 리뷰(AIMS EUV), 수리(MeRiT LE), 보정
(Fortune EUV)에 이르는 통합 솔루션을 제공하며, 이를 통해 고객들이 EUV 포토마스크의 높은 완성도를
지속적으로 유지할 수 있도록 지원한다.
특히 이번 전시에서 가장 주목할 것은 EUV 포토마스크 수리 장비인 ‘ZEISS MeRiT LE’다. 이 제품은 EUV
선단 공정에서 발생하는 포토마스크의 결함을 정밀하게 보정하여 미세화 패턴 구현을 돕는다. 이러한
고난도 포토마스크 패턴 결함 수리 솔루션은 고객들의 생산 효율 향상에 기여하고 있다.
또한, 올해도 포토마스크 보정 시스템인 ‘ZEISS Fortune EUV’ 장비를 선보인다. 이는 EUV 공정에서 웨이퍼
패턴 정렬(Overlay)을 개선하여 반도체의 품질과 수율 향상에 핵심적인 역할을 한다.

자이스 부스에서는 반도체 분석과 자동화된 현미경 솔루션도 함께 확인할 수 있다. 투과 전자현미경(TEM)
시료 전처리와 분석 자동화 솔루션을 비롯해, ’ZEISS Crossbeam’ 시리즈를 통해 반도체 소자의 특정
영역을 정확하게 분석하는 기술을 소개한다. 이미지 획득부터 분석, 후처리까지 전자 현미경의 전 과정을
지원하는’ ZEISS EM Toolkit’을 통해서는, 반도체 소재 분석 및 패키징, 공정 품질 평가 등 다양한 응용
분야에서 생산성과 정밀도를 높이는 솔루션을 제시한다. 이번 전시에서는 한국의 반도체 장비 부품
제조사의 설비 생산공정에 활용 가능한 ‘ZEISS O-INSPECT 듀오’ 역시 만나볼 수 있다. 정밀 측정 기술과
고해상도 현미경 검사를 결합하여 하나의 장비로 측정 및 분석이 가능한 장비로, 크고 작은 부품을 모두
검사할 수 있다. PCB를 포함한 반도체 장비 부품 제조 적용 사례도 함께 공유할 예정이다.

자이스 코리아는 ‘세미콘 코리아 2026’ 참가를 통해 국내 반도체 산업 발전에 기여하고, 고객과의 협력을
강화할 예정이다. 또한 지속적으로 최첨단 광학 및 검사 솔루션을 제공함으로써 반도체 제조 공정의
혁신을 선도하겠다는 다짐을 밝혔다.

자이스 그룹은 설립자인 Carl Zeiss(칼 자이스)의 현미경으로부터 시작되어 약 180 년의 역사를 가진 독일
대표 광학기업이다. ZEISS 코리아는 1986년 한독 합작투자 법인(Joint Venture)으로 설립되어 2004년 100%
독일 투자 법인으로 전환됐다. 그 후, 40년 동안 그룹 핵심 기술인 광학 솔루션을 기반으로 한국 시장에서
의료산업, 소비재, 그리고 반도체와 같은 기술 산업 분야의 핵심적 역할을 해오고 있다.
반도체 분야에서는 업계의 주목을 받고 있는 DUV, EUV 리소그래피의 핵심 요소인 광학렌즈 모듈 및
포토마스크 솔루션부터 공정 제어, 소재 및 패키징 3D 분석, 측정 등 다양한 포트폴리오를 보유하고 있다.
글로벌 유일 EUV 리소그래피(Lithography) 공급사인 ASML의 전략적 파트너이기도 하다
한국 시장은 ZEISS 그룹의 글로벌 매출 TOP5 시장 중 하나로, ZEISS 코리아는 5개 사업 분야가 보유한
다양한 서비스와 제품을 한국 시장에 제공한다.