자이스 ‘AIMS® EUV 3.0’, 향상된 마스크 처리 속도로 시장 경쟁력 강화

• 높은 가동성, 효율성으로 반도체 고객 호평을 받아 반도체 생산 라인에 적용

• 현재 양산에 적용 중인 EUV 노광장비부터 차세대 High-NA EUV 로드맵까지 모두 지원
  

2025년 9월 8일 – 독일 오버코헨

ZEISS AIMS^®는 포토마스크의 인쇄 성능을 평가하고 노광 이미징 특성을 재현하는 검사 장비다. 포토마스크는 집적회로 패턴을 실리콘 웨이퍼에 전달하는 역할을 하기 때문에 포토마스크 결함 검증은 필수적이며, 반도체 미세화에 따라 포토마스크의 정밀한 패턴 구현의 중요성도 더욱 커지고 있다. 자이스는 30여 년간 포토마스크 결함 검증을 위한 연구 개발에 매진하며 솔루션을 제공해왔다. 2017년 출시된 AIMS^® EUV를 통해 처음으로 심자외선(DUV)공정을 넘어 극자외선(EUV)공정에 맞는 솔루션을 선보였고, 현재는 AIMS^® EUV 3.0을 통해 최신 기술력을 제공한다.

AIMS^® EUV 3.0의 경우, 포토마스크 처리 성능이 AIMS^® EUV 1.0 대비 약 3배 향상되었다. 이 시스템은 반도체 제조사의 기술적 요구를 충족하면서도 높은 가동성과 안정적인 성능을 제공한다. 또한 개선된 광학계를 통해 조명 설정 변화도 용이하다.

AIMS^® EUV 3.0은 검증된 광학 설계를 기반으로 현재 양산에 적용된 Low-NA EUV 리소그래피 (NA값 0.33) 뿐만 아니라 차세대 High-NA EUV 리소그래피 (NA 값 0.55)에도 호환이 가능하다. 따라서 고객사의 로드맵 및 공정 변화에 유연하게 대응할 수 있어 반도체 업계가 요구하는 생산성과 경쟁력을 갖춘, 현 시점 최적화된 솔루션으로 평가된다.

이에 대해, 자이스 글로벌 포토마스크 사업부 총괄인 클레멘스 노이엔한 박사는 “무결점 포토마스크는 반도체 생산 효율 향상과 불량 감소에 중요한 역할을 한다.”며 “자이스 AIMS^® EUV 3.0은 마스크 결함을 신속하게 확인하고, 미세 패터닝 과정에서 발생할 수 있는 잠재적 문제를 조기에 검증, 수정할 수 있는 솔루션이다” 라고 덧붙였다. 또한 “기술력과 장비 안정성을 높여 고객에게 더 높은 가치를 제공하겠다.” 라고 전했다.

자이스 글로벌 포토마스크 솔루션 세일즈 서비스 총괄, 악셀 지볼트 박사는 “자이스의 풍부한 포토마스크 검증 경험과 장비의 높은 효율성은 고객들의 호평을 받고 있다. 앞으로도 포토마스크 분야의 핵심 파트너로 고객과 함께 하겠다.”고 포부를 밝혔다.
현재 자이스 AIMS EUV 3.0 시스템은 다수의 글로벌 반도체 제조사에서 활용되고 있으며, 올해 하반기부터 한국에서도 양산에 적용될 계획이다.

ZEISS 그룹은 175년 이상의 역사를 가진 글로벌 광학전문 기업이다. 안경 렌즈나 카메라 렌즈 등 소비자용 첨단 광학 제품을 취급하는 비전 사업부(VIS)와 스마일 라식으로 잘 알려진 의료기기 사업부(MED), 생명과학 및 재료 연구를 위한 현미경 솔루션을 제공하는 현미경 사업부(RMS), 고객의 품질 보증에 기여하는 품질 솔루션 사업부(IQS), 그리고 반도체 마스크 제품과 서비스를 제공하는 반도체 사업부(SMT)로 구성되어 있다.

ZEISS 코리아는 1986년 한독 합작투자 법인(Joint Venture)으로 설립된 이래, 2004년 100% 독일 투자 법인으로 전환하여 37년간 한국 시장에서 의료산업과 고객 비전렌즈, 그리고 반도체 및 기술 산업 분야의 핵심적 역할을 해오고 있다.

한국 시장은 ZEISS 그룹의 글로벌 매출 TOP 5중 하나로 ZEISS 그룹의 5개 사업 분야의 서비스와 제품을 한국 시장에 제공한다. 소비자용 첨단 광학 제품을 취급하는 비전 사업부(VIS)와 스마일 라식으로 더 익숙한 의료기기 사업부(MED), 광학 및 전자 현미경을 제공하는 현미경 사업부(RMS), 반도체 마스크 제품과 서비스를 제공하는 반도체 사업부(SMT), 그리고 제품 품질을 측정하는 품질 솔루션 사업부(IQS)에서 한국 고객과 기업 및 연구소들과 협업하며 성장하고 있다.